荷商艾司摩尔（ASML）是半导体设备巨头，台积电等龙头公司制造先进芯片，都需采用ASML制造商生产的昂贵极紫外光曝光机（EUV），根据《Tom's Hardware》报导，日本科学家已开发出简化的EUV扫描仪，可以大幅降低芯片的生产成本。
应用材料公司（Applied Materials）公布了一项突破性的图案化（patterning）技术，称为Centura Sculpta系统，核心是“pattern shaping”的新工艺步骤，可协助芯片制造商以更少的EUV光刻步骤生产高性能的晶体管和内连布线（interconnect wiring），从而降低先进芯片制程的成本、复杂性和环境影响性。
大陆的半导体代工企业大概什么时候能超过台积电？这个问题是说十年内，二十年内还是一百年内？ 我目前就在ASML公司工作，做的就是最新一代的EUV光刻机。这么说吧，咱们先别说把（EUV）光刻机给造出来，就是把（EUV）光刻机给用好都是一件无比复杂的事情。
